ASML

中國竟成功試作出EUV光刻機？自力突破半導體技術封锁

據報中國2025年底已完成自研EUV光刻機試作。EUV作為先進半導體製造不可或缺的核心設備，目前僅荷蘭ASML能製造。對中國而言，自力開發EUV意義重大，不僅能突破美方出口管制，也將對全球半導體供應鏈格局產生深遠影響。然而，有日本業界人士指出，光靠光刻機還不夠，製造先進晶片仍需日本技術支持。